主要產品「表面改質劑」供應晶圓代工領導廠商40奈米~2奈米製程，並持續導入最先進製程節點。「洗邊劑」、「底部抗反射層」已成功導入2奈米先進製程。新應材已取得有利位置，未來營收將受惠半導體主要客戶終端需求及擴廠計畫，持續維持成長動能。

因應台灣半導體產業積極建立特化材料本土供應鏈之目標，新應材積極尋求具潛力之特化材料公司，轉投資效益未來將逐步顯現。

新應材開發中之KrF光阻已在客戶驗證階段，ArFi光阻則積極與客戶共同開發中，目標成為首位台灣本土半導體先進製程光阻供應商，本次籌資目的將用於興建龍科廠研發中心，於115年中動土，117年第二季完工啟用，落成後將為營收挹注強勁之研發成長動能。